中芯國際迎來了久違的好消息：可從阿斯麥（ASML）訂購12億美元的光刻機。

訂購12億美元光刻機

3月3日晚間，中芯國際披露，公司於2月1日與阿斯麥（ASML）上海簽訂了經修訂和重述的阿斯麥批量採購協議，將採購協議的期限延長一年至2021年12月31日。根據批量採購協議，公司已就購買用於生產晶圓的阿斯麥產品（即光刻機）與阿斯麥集團簽訂購買單，訂單金額12億美元。

阿斯麥（ASML）即荷蘭阿斯麥，是全球最大的半導體設備製造商之一，主要業務為光刻機的研發和生產，在全球處於絕對領先地位。具體來看，ASML在45nm以下製程的高端光刻機市場中佔有85%的份額；在EUV（極紫外）光刻機領域則處於絕對壟斷地位，市場佔有率100%。

目前，ASML的EUV光刻機主力出貨型號是3400B，價格約1.2億美元，其最新款的3600D定於2021年中旬出貨交付。

是否包含EUV光刻機？

眾所周知，EUV光刻機是生產5nm芯片必不可缺的設備。那麼，中芯國際此次12億美元的採購協議都有哪些類型的光刻機，包含EUV光刻機嗎？

記者從業內資深人士處瞭解到，除了EUV光刻機，中芯國際幾乎可以買到其他所有型號的光刻機，包括DUV（深紫外）光刻機。

此前，ASML的CFO在財報會議的視頻採訪中表示：如果寬泛地理解相關規則對AMSL的整體意義，ASML將能夠從荷蘭向中國客户（包括中芯國際）提供DUV光刻系統，且無需出口許可證。不過，如果涉及直接從美國運往此類客户的零件或系統，ASML則需要為此申請出口許可證。

在DUV光刻機方面，ASML的最新一代產品型號是NXT 2050i。公開資料顯示，ASML於2020年第三季度對第一台TWINSCAN NXT 2050i進行了質量認證，並於第四季度初發貨。由於對掩模版工作台、晶圓工作台、投影物鏡和曝光激光器的技術改進，NXT2050i提供了比其前身更好的套刻精度控制，具有更高的生產率。

公開報道顯示，ASML的上一代DUV產品NXT2000i光刻機，光刻精度可以達到1.9nm，遠高於5nm要求的2.4nm以及7nm的3.5nm精度。

第一季度營收預計超10億美元

在近期接受機構調研時，中芯國際聯合首席執行官趙海軍表示，目前公司依然是滿載運營，預計今年第一季度營收會回到10億美元以上。

此前，中芯國際預計，2021年全年營收成長在中到高個位數。

產能緊缺已經成為半導體業內共識。趙海軍表示，公司會繼續擴產，預計12英寸月產能增加1萬片， 8英寸月產能增加不少於4.5萬片，但由於設備採購週期長，預計擴產產能對今年營收貢獻不大。

此外，在先進製程方面，趙海軍強調，公司將保障生產連續性，繼續與供應商推進出口許可證的申請；也會考慮加強第一代、第二代FinFET多元平台開發的布建，並拓展平台的可靠性及競爭力。